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日々の暮らしに今や欠かせないものとなった半導体。その生産や高性能化を支えているのは、JETの先進技術です。

半導体がLSIチップという形で家電製品や携帯電話、各種カードに埋め込まれ、現代の快適な生活を支えていることはご存じのとおりです。これは半導体がより高性能に、より小さく、しかも低コストで生産されるようになってきたためです。JETの製品は、こうした半導体の生産工程になくてはならないもの。JETは目に見えないところで現代社会の快適化に貢献しています。

ナノメートル時代、超高性能のICは超高性能の洗浄装置です。

より小さく、より高性能なLSIを作るには、回路の幅をより細くしていく必要があります。この回路の幅をテクノロジー・ノードといい、最新半導体生産現場のテクノロジー・ノードは、今や45ナノメートル(100万分の45mm)が主流となろうとしています。
これが現実のものとなったのは、これに対応できる超高性能の洗浄装置・乾燥機があったからで、JETの技術は半導体の進歩に大きく貢献しているわけです。
また、ICタグなどのように日常生活で幅広く活用される半導体は、安価であることが基本条件となり、低コストで生産されなければなりません。そのためには単位時間内での生産性を高める必要がありますが、JET製品の処理能力の速さは、半導体製造の生産性を高めることにも大きな力となっています。

半導体製造には微細なゴミが大敵。徹底した洗浄が必要です。

半導体は、シリコンでできた薄い円盤(シリコン・ウェーハ)に超微細な電気回路を形成することで作られます。
このとき、回路上にウォーターマーク(水滴が乾燥してできるシミ)などの不純物があると、それがどんなに微細であっても、不良品となってしまいます。
このため製造の各段階で徹底した洗浄を行い、ゴミやウォーターマークが残らないように完璧な乾燥を行うことが、絶対に必要な工程となっています。ここで活躍しているのがJETの洗浄装置と乾燥機です。

とどまることのないニーズの多様化に応えて。

驚くべきスピードで進化を遂げる半導体の世界では、それに合わせて製造ラインも改良・改善を進めていかなければなりません。洗浄装置に求められる機能もより高度に、かつ多岐にわたるものとなってきています。
また、半導体の製造工場はクリーンルームですから、建設や維持・管理に膨大なコストがかかり、スペースを少しでも有効に活用することが強く求められます。このため機能面だけでなく形やサイズについてもお客さまの洗浄装置への注文はさまざまです。
JETはお客さまのこうした多様なニーズに直ちにお応えできるよう、常に研究・開発を続け、製造工場もセル生産方式をとることにより、個別の注文にひとつひとつ対応できるようにしています。

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